二氟化氙（XeF2），又称二氟代氙，分子量为169.30，在电子工业中，XeF2常被用作硅的蚀刻气体，由于XeF2和硅的化学反应是自发反应，XeF2对硅的腐蚀工艺具有非常高的选择性，在XeF2对硅进行腐蚀过程中，XeF2气体通过自由扩散到硅衬底表面，并与最外层硅原子发生化学反应生成气态Xe和气态SiF4，从而实现对硅的腐蚀。

产品指标

产品用途：

在电子工业中，XeF 2常被用作硅的蚀刻气体。此外，二氟化氙是一种选择性很好的氟化试剂，在无机氟化物制备及有机合成中有广泛的应用，但其只有在气相和非水溶液中才具有氟化性质，在水溶液中只能起氧化剂的作用。

包装、贮存：

二氟化氙是一个稳定的化合物，可长期储放于镍制容器或铝合金无缝钢瓶内，包装规格有100g、500g、1kg、2kg和5kg规格，以满足科研院所及生产型企业的不同要求。具体包装规格可根据用户需求定制更改。二氟化氙储存于阴凉、通风的库房，应与氧化剂、食用化学品、碱金属分开存放，远离火种、热源。