企业邮箱              联系我们

站内搜索: 商品 资讯

人力资源部:0533-5677419
办公室电话:0533-5677666
传真:0533-5677666
山东省淄博市淄川新材料园(光电园区)
  • 产品名称: 三氟化氮
  • 产品编号: ZSTFN
  • 上架时间: 2017-02-24
  • 浏览次数: 456

      三氟化氮(NF3),是一种无色、无臭、性质稳定的气体,是一种强氧化剂。常温常压下,三氟化氮熔点为-206.8℃,沸点为-129.0℃,不溶于水。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体,在离子蚀刻时裂解为活性氟离子,对硅和氮化硅蚀刻时,采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性,尤其是在厚度小于1.5μm的集成电路材料的蚀刻中,三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性,在被蚀刻物表面不留任何残留物,同时也是非常良好的清洗剂。

项目

单位

指标

三氟化氮(NF3

Vol.%

99.5

99.9

99.98

99.99

99.996

四氟化碳(CF4

Vol.ppm

1500

500

100

50

20

氮气(N2

Vol.ppm

700

50

10

10

5

氧加氩(O2+Ar))

Vol.ppm

700

50

10

5

3

一氧化碳(CO

Vol.ppm

50

10

10

5

1

二氧化碳(CO2

Vol.ppm

25

10

10

5

0.5

氧化亚氮(N2O

Vol.ppm

50

10

10

5

1

六氟化硫(SF6

Vol.ppm

50

50

10

5

2

可水解氟化物(以HF计)

Vol.ppm

1

1

1

1

1

水(H2O

Vol.ppm

1

1

1

1

1

  三氟化氮可用作高能化学激光气的氟源,又可用于多晶硅、氮化硅、硅化钨等半导体材料的蚀刻剂。其亦可用作半导体芯片生产的化学气相沉积室和液晶显示器面板的清洗剂,使用三氟化氮作为CVD箱清洗剂,与全氟烃相比,可减少污染物排放量约90%,且可显著提高清洗速度,提升清洗能力。

 三氟化氮充装在钢质无缝气瓶中,钢瓶容积分别为8L、40L、43.3L47L;钢瓶型号为DOT-3AA, GB 5099钢瓶压力为9.0-13.0MPa。具体包装规格可根据用户需求定制更改。