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山东省淄博市淄川新材料园(光电园区)
  • 产品名称: 三氟化氮
  • 产品编号: ZSTFN
  • 上架时间: 2017-02-24
  • 浏览次数: 341

半导体制程材料     三氟化氮   

       三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体,是一种强氧化剂。在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体,在离子蚀刻时裂解为活性氟离子,具有优异的蚀刻速率和选择性(对氧化硅和硅),它在蚀刻时,在蚀刻物表面不留任何残留物,是非常良好的清洗剂。

项目

单位

指标

名称

 

三氟化氮

CAS

 

7783—54—2

分子式

 

NF3

分子量

g/mol

71.01

相对密度(气态)

kg/m3

2.96

熔点

-129.0

外观

 

纯净的NF3气体是一种无色无味的气体

溶解性

 

不溶于水

稳定性

 

常温下稳定,350℃以上三氟化氮缓慢分解,产生强氧化性氟

       三氟化氮的三个主要用途,一是用作高能化学激光气的氟源,二是作为电子工业中的蚀刻剂、清洗剂,三是应用于太阳能光电产业。

钢瓶

容积

钢瓶

型号

阀门

钢瓶

压力

气体

质量

危规号

UN编号

包装

分类

47L/43.3L/40L/8L

DOT-3AA/GB5099

CGA330/

CGA640

9.0-13.0

MPa

22kg/20kg/3.4kg

23016

2451